Untitled HOME GANTI PASSWORD LOGOUT




Selamat Datang
SELAMAT DATANG DI PERPUSTAKAAN ONLINE

E-JOURNAL

XRD and SEM Investigation of the Influence of pH and Bath Temperature on Nickel Sulphide Thin Films



  ID Publisher : 0000003897
  Nama Jurnal : SIGMA (Jurnal Sains dan Teknologi)
  Pengarang : Anuar Kassim, Ho Soon Min, Ngai Chee Fei, and N. S
  Subjek : nickel sulfide, X-ray diffraction, chemical bath deposition, Thin films
  Edisi : 13 / 2 / Juli 2010


Download File...

  Isi_Abstraksi_658798456391.pdf
  [   bytes ]


  Isi_Artikel_882195275760.pdf
  [ 1296157  bytes ]


Kembali


Untitled
          
LINK FAKULTAS
MENU MAHASISWA